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關(guān)于氧化鋁靶材性能,制備方法及其應(yīng)用介紹

日期:2022-07-25 瀏覽:366

氧化鋁靶材圖片


氧化鋁靶材也稱為三氧化二鋁靶材,其純度99.99%,密度9.7g/cm3,是一種可根據(jù)需求定制的材料。它的折射率為0.17~9Ц,性能上適合于電子槍蒸發(fā),能夠形成光滑致密的膜層,具有很好的抗化學(xué)腐蝕能力。


氧化鋁靶材特征

氧化鋁靶材形狀:平面靶、異型定制

氧化鋁靶材純度:4N

氧化鋁靶材尺寸:按圖紙加工或其他者定制

我們還可以提供氧化鋁顆粒、氧化鋁粉末、氧化鋁陶瓷件等


氧化鋁靶材制備工藝

選擇粒徑1-5um的球形α-Al2O3粉為原料,將原料粉末裝入石墨模具中;

對(duì)裝模后粉末進(jìn)行加熱和增壓處理,加熱溫度選擇1500℃之一,壓力保持50MPa不變;

通過(guò)真空或惰性氣體保護(hù)的粉末成型氣氛的條件,制備高致密濺射靶材半成品;

對(duì)半成品進(jìn)行加工處理,確保所有平面保持平整,得到所需要的氧化鋁靶材。


氧化鋁靶材


氧化鋁靶材應(yīng)用

半導(dǎo)體制造:用于制造集成電路中的絕緣層和導(dǎo)電層,對(duì)提高芯片性能至關(guān)重要。

光學(xué)涂層:用于制造反射鏡和防護(hù)涂層,提高光學(xué)設(shè)備的耐用性和性能。

表面工程:在工業(yè)刀具和機(jī)械零件上應(yīng)用,以提高耐磨性和耐腐蝕性。

微電子器件:如晶體管和電容器中的絕緣層,確保電子設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行。

光學(xué)元件:如相機(jī)鏡頭和望遠(yuǎn)鏡的反射鏡,增強(qiáng)成像質(zhì)量。

硬質(zhì)涂層:應(yīng)用于工業(yè)刀片和鉆頭,延長(zhǎng)其使用壽命。


氧化鋁其他應(yīng)用

耐火材料:氧化鋁具有很高的熔點(diǎn)和化學(xué)穩(wěn)定性,常用于制造各種耐火材料,如耐火磚、澆注料、搗打料等,用于冶金、化工、建材等行業(yè)的高溫爐窯。

結(jié)晶形態(tài):氧化鋁有多種結(jié)晶形態(tài),如α-Al2O3、β-Al2O3、γ-Al2O3等。其中,α-Al2O3是常見(jiàn)的形式,具有很高的硬度和耐磨性,廣泛應(yīng)用于研磨、拋光等領(lǐng)域。

砂輪和磨具:氧化鋁是砂輪和磨具的主要磨料之一,具有較高的硬度和耐磨性,適用于金屬、玻璃、陶瓷等材料的磨削和拋光。

陶瓷材料:氧化鋁是陶瓷材料的重要組成部分,用于制備陶瓷基板、陶瓷刀具、陶瓷軸承等,具有高硬度、高耐磨性和良好的絕緣性能。

涂料和顏料:氧化鋁用于制備各種涂料和顏料,具有良好的耐候性和遮蓋力,應(yīng)用于建筑、家具、塑料等行業(yè)。

納米材料:氧化鋁可用于制備納米材料,如納米氧化鋁粉體、納米氧化鋁透明薄膜等,具有獨(dú)特的物理和化學(xué)性能,應(yīng)用于電子、光學(xué)、催化等領(lǐng)域。

氧化鋁靶材:氧化鋁靶材用于物理氣相沉積(PVD)過(guò)程中的濺射靶材,應(yīng)用于電子、光學(xué)、薄膜等領(lǐng)域。

吸附劑和催化劑:氧化鋁具有豐富的孔道結(jié)構(gòu)和高比表面積,可用作吸附劑和催化劑,應(yīng)用于石油、化工、環(huán)保等領(lǐng)域。


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