隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，陶瓷靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源極。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已得到空前的發(fā)展，靶材市場規(guī)模日益膨脹。國內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)最大長度600mm，最大寬度400mmm，最大厚度30mm，圓角、斜邊、臺階等異形根據(jù)客戶要求加工。
陶瓷靶材的種類：
（1）按應用來分，可分為半導體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等。
（2）按化學組成，可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面顯示ITO陶瓷靶材國內(nèi)已廣泛生產(chǎn)應用。高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應用前景。
陶瓷靶材在現(xiàn)有的復雜電子產(chǎn)品制造中，只不過占工程的極少部分，但起到了信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)先導材料的作用。 國內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)最大長度600mm，最大寬度400mmm，最大厚度30mm，圓角、斜邊、臺階等異形根據(jù)客戶要求加工。我國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展很快，陶瓷濺射靶材的需求逐年增多，未來對陶瓷濺射靶材的研究和開發(fā)，是我國靶材供應商的一個重要的課題。
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